导读 【网盟资讯】9月6日消息，ASML首席执行官Peter
Wennink近日接受路透社采访时透露，尽管公司在供应链方面遇到了一些挑战，但他强调，ASML
【网盟资讯】9月6日消息，ASML首席执行官Peter Wennink近日接受路透社采访时透露，尽管公司在供应链方面遇到了一些挑战，但他强调，ASML仍然会按照原定计划，在今年年底之前交付High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻)机器。
High NA EUV机器是一项重要的技术突破，其体积堪比卡车，每台售价超过3亿美元，约合21.9亿元人民币。这些机器的研发旨在满足一线芯片制造商对更小、更高质量芯片的需求，为未来十年的半导体领域发展提供了坚实的基础。
根据Wennink的说法，尽管一些供应商在提高组件数量和质量方面遇到了一些困难，导致了轻微的交付延误，但整体而言，这些问题都是可以掌控的。他郑重承诺，ASML将在年底前如期交付首批High NA EUV机器。
此前，ASML及其合作伙伴一直在致力于开发一种全新的EUV光刻机，即Twinscan EXE:5000系列，该系列机器将配备0.55 NA(高 NA)的透镜，分辨率可达8纳米，旨在尽可能地避免双重或多重曝光，以适应未来3纳米及以上节点的芯片制造需求。
据ITBEAR科技资讯了解，ASML的坚定承诺继续推动半导体制造领域的技术创新，为全球芯片产业的繁荣发展提供了强有力的支持。随着High NA EUV机器的交付和Twinscan EXE:5000系列的发展，我们有望看到更先进、更高性能的芯片在不久的将来问世。